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CVD系统T1500-XTID3Z
发布时间： 2017-11-16 浏览次数：6324
设备简介：化学气相沉积(CVD)是指化学气体或蒸汽在基质表面反应合成涂层或纳米材料的方法，是半导体工业中应用非常广泛的用来沉积薄膜材料的技术，包括大范围的绝缘材料，以及大多数金属材料和金属合金材料。为此我们研发成套的CVD镀膜系统，适用于各大高校材料实验室、科研院所、环保科学等领域；
| 设备特点： 1、采用高纯氧化铝材质炉管，耐腐蚀耐高温性能优越； 2、高纯度Al2O3纤维耐火保温材料，保温效果突出，有效地降低了设备功耗； 3、炉体采用双层风冷结构工艺，有助于快速降低壳体表面温度； 4、采用智能PID模糊温度控制，7英寸触摸屏集中操控，可直观显示“时间-温度”曲线； | ||||
设备名称 | 高温CVD系统 | ||||
T-max | 1500℃ | ||||
电源 | 单相220V 50HZ | ||||
额定功率 | 6KW | ||||
测温元件类型 | S型热电偶φ8*205mm | ||||
Tmax | 1450℃ | ||||
加热温度区尺寸 | 第一个温度区：Φ100*225mm 第二个温度区：Φ100*225mm | ||||
炉管尺寸 | Φ100*1200mm | ||||
外形尺寸 | 长1414m×高720mm×深514mm | ||||
加热速率 | 1℃/H-20℃/Min | ||||
重量 | 350kg | ||||
控制系统 |
| 1、烧结工艺曲线设置：动态显示设置曲线，设备烧结可预存多条工艺曲线，每条工艺曲线可自由设置； 2、可预约烧结，实现无人值守烧结工艺曲线烧结； 3、实时显示烧结功率电压等信息并记录烧结数据，并可导出实现无纸记录； 4、具有实现远程操控，实时观测设备状态； 5、温度校正：主控温度和试样温度的差值，烧结全程进行非线性修正。 | |||
温度精度 | ±1℃ | ||||
加热元件 |
| 抗酸耐腐性能优越的高纯硅碳棒 | |||
密封系统 | |
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真空度：10Pa（机械泵） | |||||
压力测量与监控 |
| 采用机械压力表，表外壳为气密型结构，能有效保护内部机件免受环境影响和杂物侵入，同时具有较强的耐腐蚀和耐高温的能力。 | |||
弱腐蚀性气体预热器 （可选配） |
| 通体采用316L材料，对于各种气体以及腐蚀性气体的预加热处理，满足特殊的工艺需求，最高温度达600℃。 | |||
| 供气系统 |
| 采用浮子流量计控制气体流速，与设备集成为一体，且出厂前已进行漏气测试工作。 | |||
净重 | 350kg | ||||
设备使用注意事项 | 1、设备炉膛温度≥300℃时，禁止打开炉膛，避免受到伤害； 2、炉膛连续使用产生的轻微裂纹属于正常现象，不影响设备的正常使用； | ||||
服务支持 | 一年有限保修，提供终身支持（保修范围内不包括易耗部件，例如处理管和O形圈，请在下面的相关产品处订购更换件。） | ||||
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